半导体及光伏制程过滤滤芯

F8-F9级中效过滤器

过滤器厂家 安全可靠 长效稳定 支持定制
F8-F9级中效过滤器可为直接接触晶圆或电池片的工艺腔室提供洁净的冷却空气或吹扫气体,有效防止设备内部运动部件产生的微粒污染制程。依据EN 779/ISO 16890标准,其对≥0.4μm微粒的过滤效率分别达到≥75% (F8) 和≥85% (F9)。

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132 2373 6050

描述:

F8-F9级中效过滤器可为直接接触晶圆或电池片的工艺腔室提供洁净的冷却空气或吹扫气体,有效防止设备内部运动部件产生的微粒污染制程。依据EN 779/ISO 16890标准,其对≥0.4μm微粒的过滤效率分别达到≥75% (F8) 和≥85% (F9)。

核心技术优势:

紧凑化、模块化设计:专为设备内部有限空间优化,厚度通常仅25-50mm,支持FFU或设备进气口标准卡槽安装。

低阻力与高容尘量:相比HVAC用同规格产品,我们通过优化滤纸折高和间距,在确保F9级效率的同时,将设备风机能耗降低。

耐化学腐蚀与低释气:滤料及密封胶均采用低VOC材料,耐受工艺环境中的微量酸碱气体,避免二次污染风险。

可选全金属耐温结构:对PECVD等高温端设备,可提供全不锈钢框架+金属波纹/铝箔分隔板结构,耐受120-150℃连续运行。

工况适配对照表:

设备类型设备功能推荐等级关键要求
光刻机投影物镜物镜内恒温恒湿气体吹扫F9超低阻力、高面风速均匀性
涂胶显影设备 (Track)晶圆片盒超净装置 (SMIF Pod) 吹扫F8低金属离子析出
等离子刻蚀机反应腔室冷却风道进气F8耐等离子气体腐蚀
PECVD预热模块腔室吹扫F9全不锈钢材质,耐温≥120℃
扩散/氧化炉炉口区域洁净风幕F8紧凑型卡槽式设计


应用领域:

半导体前道设备

半导体光刻机

半导体真空泵与废气处理系统

光伏电池制造设备

PECVD

光伏电池烧结炉

案例与数据佐证:

为某光刻机制造商的物镜吹扫系统提供定制化F9级紧凑过滤器,优化了滤纸折型,将容尘量提升了40%;更换周期从3-4个月延长至10个月,降低了设备停机频率。

FAQ区块:

问:设备用的F9过滤器能代替HEPA(H13)吗?

答:不能。设备用F9过滤器主要用于清洁度要求ISO 7-8级的场景,如冷却或吹扫;HEPA(H13)用于要求颗粒数极少的晶圆传送或化学品过滤。需视设备颗粒控制指标而定。

 

问:如何验证设备过滤器的性能?

答:可采用扫描检漏法现场验证安装后的密封性,也可通过加装在线粒子计数器,实时监控下游气体洁净度。


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